盛美上海获得发明专利授权：“供液装置及基板清洗方法”

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证券之星消息，根据天眼查APP数据显示盛美上海（688082）新获得一项发明专利授权，专利名为“供液装置及基板清洗方法”，专利申请号为CN202211007381.7，授权日为2026年4月3日。

专利摘要：本发明提出的供液装置及基板清洗方法。供液装置包括喷嘴，喷嘴的液体入口可采用切向进液方式，利用离心力促使气液分离；喷嘴的液体出口上方可以设置板状分离部或者筒状分离部，可以抑制气泡从液体出口排出；喷嘴的内部可以采用上、下腔室结构，上、下腔室均配置排气口，实现二次排气，上、下腔室还可以均配置液体入口，使处理液分两次混合，相比于处理液一次混合，气体生成量和生成速度均可降低；还包括控制部和液位传感器，控制部根据液位传感器获得的喷嘴内部液位检测信号调控喷嘴的排气管线上的调节阀开度，以使喷嘴内液位维持稳定，有利于减小喷嘴向基板供应液体时的流量波动，提高液处理的均匀性和可靠性。

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今年以来盛美上海新获得专利授权10个，较去年同期增加了400%。结合公司2025年年报财务数据，2025年公司在研发方面投入了10.03亿元，同比增37.64%。

通过天眼查大数据分析，盛美半导体设备（上海）股份有限公司共对外投资了16家企业，参与招投标项目173次；财产线索方面有商标信息39条，专利信息694条，著作权信息1条；此外企业还拥有行政许可31个。

数据来源：天眼查APP

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